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                深硅刻蚀

                深硅刻蚀

                • 所属分类:定制产品与服务

                • 点击次数:
                • 发布日期:2019/06/21
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                • 详细介绍

                刻蚀技术(etching technique),是在半导体工艺,照模图形或设计要 求对半导体衬面或面覆盖膜进行选择性蚀或剥的技术。蚀技术不 仅是半导体件和成电路的基本制造工艺,而且还应用于膜电路、刷电路。

                刻蚀还可分为湿蚀和干蚀。 蚀的机制,发生顺可分为「应物近面」、「面氧」、「面 应」、「生成物开面」等过程。整个蚀,应物近、生成物 开的扩散应,学应两。整个蚀的时间,等于是扩散学应 两费时间的总和。二者中者费时较长,整个蚀快慢也在该者, 故有谓「reaction limited」「diffusion limited」两类蚀分。

                深硅刻蚀.jpg

                本文网址:/product/601.html

                关键词:刻蚀技术,深硅刻蚀工艺,深硅刻蚀设备

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