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                硅模板  

                微接触压印光刻(Microcontact-NIL) 微接触压印光刻技术要先通过光学或电子束光刻得到模版。模具材料的化学前体在 模版中固化,聚合成型后从模版中脱离,便得到了进行微接触印刷[百科 微博]所要求的模 具。常常要得到的模具是 PDMS,接着,PDMS 模具浸在含有硫醇的试剂中,然后将浸过试 剂的模具压到镀金衬底上,衬底可以为玻璃、硅、聚合物等多种形式。另外,在衬底上可以 先镀上一薄层钛层然后再镀金,以增加粘连。硫醇与金发生反应,形成自组装单分子层 SAM。 印刷后有两种工艺对其处理。一种是采用湿法刻蚀,如在氢化物溶液中,氢化物的离子促使 未被 SAM 层覆盖的金溶解,而由于 SAM 能有效地阻挡氢化物的离子,被 SAM 覆盖的金被 保留,从而将单分子层的图案转移到金上。还可以进一步以金为掩模,对未被金覆盖的地方 进行刻蚀,再次实现图案转移,另一种是在金膜上通过自组装单层的硫醇分子来链接某些有 机分子,实现自组装,如可以用此方法加工生物传感器的表面。 2.微接触印刷不但具有快速、廉价的优点,而且它还不需要洁净间的苛刻条件,甚至不需要 平整的表面,微接触印刷还适合多种不同表面,具有作用方法灵活多变的特点,该方面 缺点是在亚微米尺度,印刷时硫醇分子的扩散将影响对比度,并使印出的图形变宽。通过优 化浸液方式、浸液时间,尤其是控制好模具上试剂量及分布,可以使扩散效应下降。      

                硅模板

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