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                • 热压印技术

                  纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成
                  发布时间:2019-08-22   点击次数:87

                • X射线光刻技术

                  1895年,德国物理学家伦琴首先发现了X射线,也因此获得了诺贝尔物理学奖。X射线是一种与其他粒子一样具有波粒二象性的电磁波,可以是重原子能级跃迁或着是加速电子与电磁场耦合辐射的产物。X射线的波长极短,1972年X射线被早提出用于光刻技术上,
                  发布时间:2019-08-16   点击次数:137

                • 我国半导体之殇--光刻机与...

                  微光学对于200mm晶圆技术的需求日益增长。MEMS和半导体工业已有的工艺条件,几乎可以制作任意微光学器件的结构。微镜压印技术(SMILE)采用软质模板,在待压印材料上制作高质量的微镜阵列,待压印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待压
                  发布时间:2019-01-25   点击次数:83

                • 光刻胶的选择是一个复杂的过...

                  纳米压印光刻技术的现状目前,大量的研究机构开展了该技术的研究工作,惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片,StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任,他
                  发布时间:2019-01-25   点击次数:69

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