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                纳米压印技术的​热压印什么?

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                纳米压印技术的​热压印什么?

                发布日期:2019-01-25 作者: 点击:

                纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改 变光刻胶的物理化学性质,进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和 光子的前提下,直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械 作用,使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制,可大面积地制备纳米级图形。 同时,由于这项技术所用的设备简单,制备时间短,压印模板可以重复使用,所以应用该技术 制备纳米图形所需的成本也较低。


                这种技术早由普林斯顿大学的 Chou 等学者提出[1]。研究出来的纳米压印技 术是热压印(Hot embossing),随着研究的不断深入,一些改进的纳米压印技术也随之诞生。 这些改进的纳米压印技术主要有:滚轴纳米压印技术( RNIL)、紫外固化压印技术(UV-NIL) (包括步进-闪光压印(S-FIL))、微接触印刷(UCP)、反纳米压印技术(R-NIL)、光刻结合压 印(CNP)和激光辅助压印(LADI)等[2]。当然科研者们也正在开发更多的方法,这些改进纳米压印技术原理基本一致,只是工艺变得更简单、实用和廉价.


                热压印(Hot embossing) 热压印(Hot embossing)是早开发出的纳米压印技术,相对其他技术,它也是被研究的 充分,应用的广泛,是目前纳米压印技术的主流技术。

                热压印模板的制备[3] 模板的制备是整个热压印过程当中关键的一步,因为纳米压印技术的核心思想是图形 的复制与转移,整个技术实现的前提是模板须具备高分辨率、稳定、可重复使用特性。目前 分辨率高的曝光技术是电子束直写曝光技术,它的分辨率可高达 5nm,其过程如下:(1)涂 敷聚合物:将对电子束敏感的聚合物(如 PMMA)涂敷到平整的基底上;(2)制备聚合物图形: 电子束按照预定的图形程序在聚合物表面扫描曝光,被曝光区域的聚合物断键或分解,溶解在 特定的溶剂中。而未被扫描的区域则不溶(即显影),在基底上制备聚合物图形;(3)转移聚 合物图形:经过真空蒸镀金属、剥离、反应离子刻蚀等工序,将聚合物图形转移到金属或基底 上。这里的基底材料通常是 SiO2。

                纳米压印技术

                本文网址:/news/386.html

                关键词:纳米压印技术,纳米压印,热压印模板

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